英特尔成业界首个用High-NA EUV技术大规模产逻辑芯片企业
英特尔采用ASML的High-NA EUV光刻技术大规模生产代号“Panther Lake”的第三代酷睿Ultra系列处理器，成为业界首例。该技术精度更高，良品率已达现有水平。ASML与英特尔长期合作推动半导体发展，未来将继续合作，灵活整合High-NA EUV技术。
英特尔拿下第一桶金
英特尔于芯片制造领域再度获取一场胜利, 他们对外宣告采用英特尔18A工艺流程以大规模制造部分被称作Lake的第三代酷睿Ultra处理器, 如此一来使得他们摇身一变成为产业中首个开展这般行动的大规模企业。
ASML技术再进一步
阿斯麦尔称，在过去的数十载的漫长岁月里, 始终都在和英特尔携手合作, 以此来强力助推光刻技艺的不断向前发展。高数值孔径极紫外光刻无疑是极紫外光刻技术进程中极为关键的重要一步, 其所要达成的旨在目标是, 给予那些生产先进的尖端的更为高级卓越的芯片制造, 带去具备更高精准度的图案成像化能力。
俄勒冈工厂良品率达标
英特尔于美国俄勒冈州希尔斯伯勒所设的生产线, 成就了High – NA EUV双重认证的达成。良品率企及了现有NXE EUV平台的水准, 这表明技术已然成熟且能够应用。
首台设备去年交付
2023 年末的时候, ASML 给英特尔送去了首台 High-NA EUV 光刻机, EUV 光刻机的型号是 EXE:5000。英特尔将它当作试验机, 在 2024 年 4 月于俄勒冈州的 Fab D1X 完成设备安装。
第二台设备精度更高
去年年末的时候, 英特尔装设了新的系统 EXE:5200B, 它属于第二代 High-NA EUV,这可是现今全球最为先进的光刻机器装备哪, 套刻的精确程度达到了 0.7 纳米, 相比之前的那些设别要更加精准。
未来合作更加紧密
接下来, 双方会围绕High-NA EUV技术准备持续展开紧密合作, 他们会依据客户提出的需求, 灵活地把该项技术融入到后续的制程节点里, 进而共同促使半导体行业向前发展。
你认为英特尔此次处于领先状态, 这可为其在后续的市场竞争里占到多少优势呢?
